24일 금융감독원 전자공시시스템에 따르면 SK하이닉스는 네덜란드의 반도체 장비 기업 ASML로부터 극자외선(EUV) 스캐너를 도입하기로 결정했다. SK하이닉스의 반도체 생산공장 클린룸. 사진=SK하이닉스
[주간한국 이주선 기자] SK하이닉스가 12조원을 투입해 반도체 초미세 공정의 핵심인 극자외선(EUV) 노광장비를 도입한다. 반도체는 웨이퍼 제조에서부터 패키징 공정에 이르기까지 8단계의 공정을 거쳐 생산되는데, 이 중에서 가장 중요한 것이 노광 공정이다. 노광은 빛을 이용해 웨이퍼에 회로를 새기는 것을 말한다. 반도체의 설계도이자 반도체 그 자체가 만들어지는 단계라고 할 수 있다. 빛으로 새겨지는 회로의 선폭이 미세할수록 하나의 웨이퍼에 들어갈 수 있는 반도체 칩 수가 많아져 수율이 좋아지는 것은 물론 선폭이 좁을수록 소비 전력이 줄고, 처리 속도 역시 빨라진다. 세계 주요 반도체 기업들이 더 미세한 반도체를 만들려고 하는 것도 이 때문이다.
아울러 노광 공정은 반도체 전체 생산 시간의 60%, 비용 측면에서는 35%를 차지할 만큼 절대적 중요성을 갖고 있다. 이에 SK하이닉스의 이번 투자는 고대역폭메모리(HBM)를 포함한 차세대 메모리반도체 주도권 선점을 위한 조치로 풀이되고 있다.
24일 금융감독원 전자공시시스템에 따르면 SK하이닉스는 네덜란드의 반도체 장비 기업 ASML로부터 EUV 스캐너를 도입하기로 결정했다. 매입 금액은 약 11조 9500억원으로, 이는 지난 2024년 말 기준 회사 자산총액의 9.97%에 달한다. 장비 도입과 설치·개조 비용이 포함된 금액이라고 SK하이닉스는 설명했다.
장비 반입은 오는 2027년 12월까지 약 2년에 걸쳐 진행된다.
ASML은 삼성전자, SK하이닉스, 인텔, TSMC 등 유수의 반도체 기업들이 더 작고 세밀한 반도체를 만들기 위한 나노미터(㎚·10억분의 1m) 경쟁을 이어가고 있는 가운데, 결코 놓쳐서는 안 될 핵심 파트너다. 반도체 초미세 공정에 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업이기 때문이다. 이에 반도체 업계 ‘슈퍼 을(乙)’로 통한다.
SK하이닉스는 현재 서버·모바일 등 전방 산업에서 범용 메모리반도체 부족현상이 심화하는 상황에서 공급 안정화에 주력한다는 계획이다. 또한 생산능력 확대와 선단 공정 전환에 속도를 낸다는 방침이다.
이주선 기자 leesun@hankooki.com
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