신성이엔지 산업용 클린룸 공조 모식도.(자료=신성이엔지)
신성이엔지가 제습과 공조 기능을 통합한 장비제습모듈(EDM:Equipment Dehumidify Module)을 전공정 장비 기업을 통해 삼성전자에 공급한 것으로 확인됐다.
21일 업계에 따르면 신성이엔지는 EDM을 국내 반도체 장비기업인 피에스케이(PSK)에 공급하고 있다. 피에스케이가 제조, 공급하는 전공정용 장비에 EDM이 탑재돼 최종 고객사인 삼성전자에 납품된다. 현재까지 공급된 EDM은 수십대 정도로 알려졌다.
신성이엔지 관계자는 "기존 공조 장치의 단가는 수십만원 수준이었지만, EDM은 수천만원대의 고가 제품"이라며 "공급 규모가 크진 않으나 수익성이 좋아 실적 개선에 긍정적 영향을 주고 있다"고 설명했다.
EDM은 산업용 공기 청정(공조) 장치인 팬필터유닛(FFU)과 제습 장치를 통합한 일체형 제품이다. 웨이퍼이송모듈(EFEM)이나 반도체 공정 장비의 챔버에 탑재된다. 신규 장비가 아니어도 기존 팹에서 운용하고 있는 구형 장비나 EFEM에 바로 부착해 쓸 수 있다. 내부 습도를 5%로 유지 가능하다. 별도 제습 배관을 설치할 필요가 없어, 설비 전체 부피와 클린룸 차지 면적(풋프린트)을 줄일 수 있다.
최근 웨이퍼 이송 과정이나 챔버 내부를 극저습 상태로 유지하는 제습 모듈 수요가 늘어나고 있다. 반도체 제조 공정의 회로선폭(노드) 미세화로 공정 수율이 낮은 습도에도 큰 영향을 받기 때문이다. 신성이엔지도 이를 고려해 EDM을 2022년부터 개발했다. 신성이엔지는 지난 1월 "국내 종합반도체기업(IDM)에 공급해 공정별 품질 테스트를 시작했다"고 공개하기도 했다.
피에스케이는 건식(드라이) 스트립 장비와 건식 세정, 베벨 식각(Etch) 등 주요 전공정 장비를 보유하고 있다. 주력 장비는 건식 스트립이다. 반도체 전공정 중 노광(리소그래피) 공정에서 사용한 감광액(PR)을 웨이퍼 표면에서 제거하는 표면처리 장비다. PR를 플라스마 가스로 만든 활성 산소로 제거한다. 해당 과정에서 수증기(H2O)가 발생해 습도가 높아진다. 챔버 내 습도가 높으면 식각 공정 후 잔류 성분이 강산으로 바뀌며 금속 배선을 부식시킬 수 있다. 배출돼야 할 부산물이 다시 웨이퍼 표면에 흡착되는 등 공정 속도와 수율에 영향을 준다. EDM이 필요한 이유다.
피에스케이는 삼성전자 평택캠퍼스 4공장(P4)의 D램 공정 전환과 생산 능력 확장으로 신규 장비를 공급하고 있다. 지난해 4분기 매출 비중 대부분을 차지한 것으로 알려졌다. 평택캠퍼스 P3와 P5, 화성 L15, L16, 테일러 공장에도 장비 공급이 기대되고 있다.
피에스케이의 전공정 장비 공급 확대는 신성이엔지의 EDM 매출 증가로 이어질 전망이다. 지난해 신성이엔지의 연결 기준 연간 매출은 5674억원, 영업이익은 12억8000만원이었다. 이 가운데 클린룸과 관련 장비 매출이 약 5055억원, 영업이익이 44억원이다.
신성이엔지는 향후 EDM 습도를 1% 이하까지 제어할 수 있도록 기술을 고도화한다. 올해 정전기 제어(이오나이저) 기능까지 통합한 EDM도 출시할 예정이다.
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