삼성전자 반도체 기술을 중국으로 빼돌린 혐의로 재판에 넘겨진 전직 연구원이 1심에서 중형을 선고받았습니다.
서울중앙지법 형사합의28부(재판장 한대균)는 오늘(22일) 산업기술보호법 위반 등의 혐의로 구속기소된 전모(56) 씨에게 징역 7년을 선고했습니다.
재판부는 "유출된 기술이 국가 핵심기술에 해당하고, 피고인이 유출 과정에 관여한 사실이 인정된다"며 유죄로 판단했습니다.
이어 "국내 기업이 막대한 비용을 들여 개발한 기술을 해외에서 쓰이게 해 국가적 손실을 초래했다"며 엄벌 이유를 밝혔습니다.
전 씨는 전직 삼성전자 연구원으로, 중국 반도체 업체 CXMT로 옮기는 과정에서 D램 공정 기술을 넘긴 혐의를 받습니다.
이 기술은 삼성전자가 약 1조 6천억 원을 투자해 개발한 10나노급 D램 핵심 공정으로 알려졌습니다.
전 씨는 그 대가로 약 6년간 29억 원 상당의 금전과 스톡옵션을 받은 것으로 조사됐습니다.
한편, 함께 기소된 또 다른 전직 연구원 김모 씨는 2심에서 징역 6년과 벌금 2억 원을 선고받았지만, 현재 대법원 판단에 따라 사건이 파기환송돼 다시 재판이 진행 중입니다.
대법원은 "영업비밀을 넘기는 행위와 사용하는 행위는 별개의 범죄"라며 원심 판단에 법리 오해가 있었다고 봤습니다.
댓글
0