ASML의 하이 NA EUV 장비 'EXE:5000' (사진=ASML코리아)
SK하이닉스가 2년간 12조원 규모로 ASML의 극자외선(EUV) 장비를 확보한다.
SK하이닉스는 이날부터 2년간 EUV 스캐너를 ASML코리아로부터 공급받는다고 24일 공시했다. 총 금액은 11조9500억원이며 장비 가격과 설치, 개조에 소요되는 금액을 모두 포함한다. 2024년 말 자산총액의 10% 수준이다. 공시한 EUV 스캐너는 하이 NA EUV 장비로 예상된다.
고대역폭메모리(HBM) 등 고부가 메모리 양산에 필요한 장비를 적기에 확보하기 위한 전략이다. SK하이닉스는 EUV 스캐너 취득 목적에 대해 "차세대 공정 양산 대응을 위한 EUV 장비 확보"라고 적시했다.
EUV 장비 24대를 확보하는 셈이다. 업계에선 EUV 장비를 들이는 비용을 한 대당 5000억원이라고 보고 있다.
EUV 장비는 청주와 용인 팹에 나눠 들어갈 것으로 예상된다. SK하이닉스는 이달 충북 청주 소재 M15X의 페이즈4(PH4) 클린룸을 오픈하고 장비를 반입한다. 용인 클러스터 1기 팹 클린룸 오픈은 내년 2월로 예정됐다.
SK하이닉스는 지난해 9월 양산용 하이 NA EUV 장비를 이천 M16팹에 반입하고 기념 행사를 진행했다. (사진=SK하이닉스)
SK하이닉스는 올해 6세대(1c) D램 등 선단 공정 전환에 속도를 올린다. 1c D램은 가장 앞선 D램 공정이다. D램 공정은 세대를 거듭할수록 반도체 회로가 미세화된다. 회사는 1c 공정 전환으로 소캠2(SOCAMM2)와 GDDR7 등 AI 메모리 제품군을 확대한다.
점점 미세화되는 D램에 맞춘 패터닝 장비가 필요하다. EUV 장비는 EUV를 이용해 웨이퍼 위에 미세 회로를 형성한다. 하이 NA EUV 장비는 기존 EUV 장비 대비 해상도를 향상시켰다. 현존하는 장비 중 가장 미세한 회로를 새길 수 있다. 광학 기술은 40% 향상됐으며, 1.7배 더 정밀하다. 앞서 지난해 9월 SK하이닉스는 양산 목적으로 이천 M16에 하이 NA EUV 장비를 반입했다. 회사는 2021년부터 EUV 장비를 도입하고 있다.
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