SK하이닉스가 2024년 말 기준 자산총액의 9.97%에 달하는 대규모 투자로 ASML로부터 EUV 스캐너를 확보했다. 사진=SK하이닉스
[서울와이어=양승보 기자] SK하이닉스는 24일 공시를 통해 네덜란드 반도체 장비 기업인 ASML로부터 약 11조9496억원의 천문학적인 금액으로 극자외선(EUV) 스캐너를 확보한다고 밝혔다.
이는 2024년 말 기준 자산총액의 9.97%에 달하는 대규모 투자로, 장비는 총 2년에 걸쳐 취득할 예정이다. 거래 금액에는 EUV 스캐너 도입 및 운영을 위한 신규 기계 장치, 설치, 개조에 소요되는 예상금액이 모두 포함됐다.
반도체는 회로 선폭(전기가 흐르는 길의 폭)이 좁을수록 성능이 좋아지고 전력 소모가 줄어든다. 현재 반도체 메모리 업계는 10나노급 6세대인 '1c D램' 단계로 진입하고 있다. 기존 방식이었던 ArF 광원은 빛의 파장이 193nm로 회로를 얇게 그리기가 어려워 여러 번 겹쳐 그려야 했다. 이는 공정 시간을 늘리고 불량률을 높인다.
반면 EUV는 짧은 파장(약 13.5nm) 빛을 이용해 가는 선을 한 번에 세밀하게 그려낸다. 이는 1c D램의 불량율 낮추고 공정 시간을 단축시킨다. 이런 이유로 반도체 장비를 안정적으로 공급하기 위해선 EUV 장비가 필수적이다.
이에 SK하이닉스는 이번 투자의 목적을 "차세대 공정 양산 대응을 위한 EUV 장비 확보"라 밝히며, 다가올 AI 반도체 시장에서 수율과 성능이라는 두 마리 토끼를 잡겠다는 의지를 보였다.
또한 SK하이닉스는 생산 인프라에도 속도를 낸다. 청주 M15X 팹의 2단계 클린룸 장비 반입 및 가동 시점을 당초 계획보다 2개월 앞당기기로 확정했다. 다음 해 2월 가동을 목표로 하는 용인 1기 팹 역시 생산 인프라 구축을 진행하고 있다.
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