19일 삼성전자는 삼성전자는 올해 110조원 이상의 R&D·시설 투자 집행을 계획하고 있다고 밝혔다. 서울 삼성전자 서초사옥에 태극기와 삼성그룹 깃발이 나부끼고 있다. 사진=연합뉴스
[주간한국 이주선 기자] 삼성전자가 올해 110조원 규모의 연구개발(R&D)·시설 투자를 집행한다.
19일 삼성전자는 이 같은 내용의 ‘기업가치 제고 계획’을 공시했다.
삼성전자는 올해 110조원 이상의 R&D·시설 투자 집행을 계획하고 있다. 지난해에는 R&D·시설 투자에 90조 4400억원을 쏟아부었는 데 이보다 약 21.7% 늘어난 것이다.
대부분 투자는 반도체 사업을 맡고 있는 디바이스솔루션(DS) 부문을 중심으로 이뤄질 것으로 전망되고 있다. 앞서 전영현 삼성전자 부회장은 전날 열린 정기 주주총회에서 “DS부문은 로직부터 메모리, 파운드리, 패키징까지 ‘원스톱 솔루션’이 가능한 세계 유일 반도체 기업”이라면서 “AI 반도체 시장의 주도권을 확보하기 위한 기술 경쟁력을 갖춰 나가겠다”고 언급한 바 있다.
삼성전자는 현재 업계 최대 규모의 반도체 생산 거점인 경기 평택캠퍼스 4공장(P4)의 공사기간 효율화하는 작업을 진행하고 있다. 이를 통해 양산체계를 빠르게 갖출 계획이다. 또 5공장(P5) 구축을 위한 기초 공사도 추진하고 있다. 아울러 용인 반도체 클러스터에 신규 팹(공장)을 짓고 있다. 연말 가동을 목표로 미국 텍사스주 테일러시에 첨단 파운드리 역시 건설 중이다.
올해 삼성전자는 로봇, 메드텍, 전장, 냉난방공조(HVAC) 등 미래 성장 분야에서 의미 있는 규모의 인수합병(M&A)도 추진한다. 이를 기반으로 중장기 성장 동력을 확보할 방침이다.
이주선 기자 leesun@hankooki.com
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