국가핵심기술 유출 인정.."기업·국가 손실 중대"
中 CXMT, 삼성 기술 기반 10나노 D램 양산 의혹
검찰 "기술 유사도 98%..누적 피해 수십조 추정"
K반도체 국가핵심기술 유출사건 범행 개요도. /자료=2025.12.23.서울중앙지방검찰청
삼성전자 반도체 핵심기술을 중국에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 전직 연구원이 1심에서 중형을 선고받았다.
22일 서울중앙지법 형사합의28부(한대균 부장판사)는 산업기술보호법 위반 등 혐의로 구속기소된 전모(56)씨에 대해 징역 7년을 선고했다.
재판부는 유출된 기술이 국가핵심기술에 해당하고, 전씨가 유출 과정에 공모한 점을 인정해 유죄로 판단했다.
재판부는 "우리나라 대기업이 거액을 들여 개발한 핵심 정보를 취득해 외국에 사용하게 했다"며 "기업은 물론 대한민국에까지 손실을 입혔기 때문에 엄한 처벌이 불가피하다"고 밝혔다.
전씨는 전직 삼성전자 부장 김모씨와 함께 중국 반도체 업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직하는 과정에서 D램 공정 기술을 유출한 혐의로 지난해 5월 구속기소됐다.
유출된 기술은 삼성전자가 약 1조6000억원을 투입해 세계 최초로 개발한 10나노급 D램 공정으로, 수백 단계에 이르는 핵심 공정 정보가 포함된 것으로 전해졌다.
이번 사건은 단순 자료 반출을 넘어 실제 양산 단계까지 이어졌다는 점에서 파장이 컸다.
검찰에 따르면 CXMT는 2016년 설립 직후 삼성전자 핵심 개발 인력을 집중 영입하며 기술 확보 전략을 추진했고, 유출된 공정기술을 개발 전 과정에서 활용한 것으로 조사됐다.
수사 과정에서는 전직 연구원이 공정 정보를 자필로 옮겨 적어 반출하는 등 직접 유출 정황도 확인됐다.
일부 인력은 위장회사 취업이나 제3국 경유 입국 방식으로 수사망을 회피하려 한 것으로 파악됐다.
검찰은 압수수색과 자료 분석을 통해 CXMT 내부 기술과 삼성전자 자료 간 유사도가 초기 50%대에서 최종 98% 수준까지 높아진 점을 확인하고, 핵심 공정 정보가 사실상 그대로 재사용됐다고 판단했다.
CXMT는 중국 지방정부가 약 2조6000억원을 투자해 설립한 기업으로, 해당 기술을 기반으로 중국 최초 10나노급(18나노) D램 양산에 성공한 것으로 검찰은 판단하고 있다.
이 과정에서 SK하이닉스 관련 기술까지 일부 확보된 정황도 수사 과정에서 확인된 것으로 전해졌다.
검찰은 이번 사건으로 삼성전자의 매출 감소액이 약 5조원에 달하고, 국가경제 차원의 누적 피해는 수십조원 규모에 이를 수 있다고 추정했다.
한편 함께 기소된 김씨는 2심에서 징역 6년과 벌금 2억원을 선고받았으나, 대법원이 영업비밀 침해 행위의 법리 판단을 문제 삼아 사건을 파기환송해 현재 서울고법에서 재심리가 진행 중이다.
대법원은 영업비밀의 ‘취득’, ‘사용’, ‘제3자 누설’ 행위를 각각 독립적으로 판단해야 한다는 취지로 원심을 파기했다.
K반도체 국가핵심기술 유출사건 유출 자료 중 일부. /자료=2025.12.23.서울중앙지방검찰청
K반도체 국가핵심기술 유출사건 피고인별 공소사실 요지 등. /자료=2025.12.23.서울중앙지방검찰청
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