서울중앙지방법원 전경 /뉴스1
국내 반도체 핵심 공정 기술을 중국 업체로 넘긴 혐의로 재판에 넘겨진 삼성전자 전 직원이 1심에서 실형을 선고받았다. 법원은 유출된 정보가 국가핵심기술에 해당하고, 피고인이 관련 범행을 공모한 사실도 인정된다고 봤다.
서울중앙지법 형사합의28부(재판장 한대균 부장판사)는 22일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 전모씨에게 징역 7년을 선고했다.
재판부는 중국 업체로 넘어간 PRP(Process Recipe Plan) 등 반도체 핵심 공정 정보가 국가핵심기술에 포함된다고 판단했다. 전씨가 공범들과 함께 삼성전자 핵심 기술 유출에 관여한 점도 유죄 판단의 근거로 들었다.
재판부는 우리나라 대기업이 막대한 자금과 인력을 투입해 개발한 핵심 기술이 외국 기업에서 활용되도록 한 범행이라며, 기업뿐 아니라 국가 차원에서도 손실이 발생한 사안이라고 지적했다.
전씨는 삼성전자에서 중국 D램 업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 자리를 옮긴 뒤, 삼성전자가 약 1조6000억원을 들여 개발한 D램 공정 관련 국가핵심기술을 부정하게 취득해 사용한 혐의로 기소됐다. 검찰은 전씨가 이직 과정에서 삼성전자 공정 기술을 확보하고 핵심 인력 영입에도 관여해 CXMT의 D램 개발 계획 수립에 참여한 것으로 봤다.
검찰은 또 전씨가 CXMT로부터 사인온 보너스와 스톡옵션 등을 포함해 약 6년간 29억원 상당의 금품을 받은 것으로 파악했다.
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